光学微电子行业净化工程的基本要求
光学微电子行业净化工程的基本要求
随着科技的不断发展，光学微电子行业在我国得到了迅速的发展。光学微电子产品广泛应用于光通信、光显示、光存储等领域，其质量直接影响到产品的性能和可靠性。为了确保光学微电子产品的生产环境达到高标准，净化工程在光学微电子行业扮演着至关重要的角色。以下是光学微电子行业净化工程的基本要求：
一、洁净度要求
洁净度等级：光学微电子行业净化工程《洁净室空气调节用空气过滤器》标准，根据不同生产环节的要求，选择相应的洁净度等级。通常，光学微电子行业洁净度等级分为N1级至N10级。
洁净度控制：通过高效空气过滤器（HEPA）对送风进行处理，确保送风洁净度达到要求。同时，对回风进行过滤，减少室内尘埃颗粒的积累。
二、温湿度控制
温度：光学微电子行业净化工程对温度的要求较高，一般控制在20℃±2℃范围内。温度波动过大会影响光学微电子产品的性能。
湿度：湿度控制在40%-60%之间，避免因湿度过高导致产品受潮或因湿度过低导致静电积累。
三、气流组织
气流速度：光学微电子行业净化工程中，气流速度应控制在0.2-0.5m/s之间，以确保尘埃颗粒在气流作用下被有效控制。
气流方向：气流方向应从洁净度高的区域流向洁净度低的区域，避免交叉污染。
四、防静电措施
静电防护材料：使用防静电地板、防静电工作台等静电防护材料，降低静电产生。
静电消除设备：安装静电消除器，及时消除静电。
五、洁净室装修
装修材料：选用符合环保标准的装修材料，避免有害物质释放。
装修工艺：采用无尘施工工艺，确保装修过程中不产生尘埃。
六、设备选型与安装
设备选型：根据生产需求，选择合适的净化设备，如高效空气过滤器、风机、风管等。
设备安装：严格按照设备说明书进行安装，确保设备运行稳定。
总之，光学微电子行业净化工程的基本要求涵盖了洁净度、温湿度、气流组织、防静电、装修和设备选型与安装等方面。只有满足这些基本要求，才能确保光学微电子产品在生产过程中的质量，为我国光学微电子行业的发展提供有力保障。
无尘车间洁净室装置与规划:
洁净室选用不同的送风及回风体系的不同规划是决议车间不同洁净度等级的决议性要素。
1、标准组合式空调风柜+空气过滤体系+洁净室通风保温管道+HEPA高效送风口+洁净室回风管道体系。这种方式能不断循环和补充新风进入洁净室车间内，以达到出产环境所需的洁净度。
2、洁净室天花装置FFU空气净化器直接往洁净室送风+回风柱回风体系+吸顶式空调机制冷。这种方式一般用于环境洁净度要求不是非常高的场合，而且成本相对低一些。
质量要求
生产车间按生产工艺和产品质量要求，分为一般生产区、控制区和。设人员换鞋区、男女一、二次更衣室、洗手、手消毒、洗衣间、风淋通道、洁净人流走廊、物流货淋室，货淋走道通道、注塑间、胶垫吹尘、中储库、组装间、内包装间、外包装间及机房、物流等。机房设在三楼天面原小房间中，需做隔音防震处理; 冷却塔及冷却泵置于三楼天面;设备运行负荷符合楼板承重要求。
流动方向
人员流动方向：换鞋、更衣、洗手、手消毒–风淋室–洁净走廊–洁净车间
在净化车间及走廊设安全门, 便于人员疏散。
物品流动方向：物流通道——洁净车间——–成品包装净化空调系统。
